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化学气相沉积技术的研究与应用进展

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  • 【题名】:化学气相沉积技术的研究与应用进展
  • 【年份】:2020
  • 【作者】:牛燕辉
  • 【关键词】:化学气相沉积  硅外延  难熔金属  过程分析
  • 【摘要】:硅外延工艺化学气相沉积可以赋予材料表面一些特殊的性能,可用在刀具材料、航空材料、生物医用材料等领域,而且随着科学技术的发展,在制备合成等领域也得到了广泛应用。在这样的情况下,本文针对化学气相沉积技术进行研究,在简单了解基本原理后,详细分析该技术的具体应用内容,以供参考。
  • 【期刊名】:科技风
  • 【分类号】:TQ03
  • 【期号】:第13期
  • 【作者单位】:河北普兴电子科技股份有限公司
  • 【页码】:161
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